抛光的常见方法

一、机械抛光：抛光在抛光机上进行。

目前，业界把机械抛光分成两个步骤：第一步：粗抛；第二步：精抛。

粗抛：目的是除去磨光的金属表面的不平整面。一般采用金刚石磨粒，其优点有以下两点：

1)相比氧化铝磨粒，采用粒度比较小的金刚石磨粒，高效抛光；

2)抛光质量比较好。

精抛：工业上又称终抛，无论去除粗抛过程中产生的不平整面，使抛光效果更好。

现在的工业生产的精抛磨料主要有氧化镁和氧化铝两种，氧化镁的抛光效果比较好，缺点是抛光效果低，不容易掌控。氧化铝的抛光速度快，还便于掌控。

二、电解抛光：指金属制品在一定组成的溶液中进行特殊的阳极处理，以获得平滑、光亮表面的精饰加工过程。

1.相较于机械抛光，电解抛光就是电化学溶解的一个过程，没有任何外力作用，不会让金属的表面产生形变。

2.电解抛光对金属表面磨光效果要求不高(一般用800号水砂纸磨平即可)，并且，出光速度快，效率高。

注意事项：电解抛光必须选择合适的电压，控制好电压，电压过低和过高，都不会达到正常抛光的目的。

三、化学抛光：利用化学溶解作用得到光滑的抛光表面。

将试样浸没在化学抛光液中，不久之后，就能得到光亮的表面。化学抛光利用化学腐蚀的作用，会出现金相组织，抛光后的金属件就可直接利用显微镜进行查看。

化学抛光液的组成成分因抛光对象的差异而不一样，通常情况下，是一种混合酸液。

常用的酸类有：正磷酸、铬酸、硫酸、醋酸、硝酸及氢酸；为了增加金属表面的活性以利于化学抛光的进行，还加入一定量的过氧化氢。

化学抛光液经使用后，溶液内金属离子增多，抛光作用减弱，需经常更换。